特許
J-GLOBAL ID:200903090946252314

パターン化されたミラー縦型空洞表面放出レーザ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大貫 進介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-089461
公開番号(公開出願番号):特開平6-045695
出願日: 1993年03月25日
公開日(公表日): 1994年02月18日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 製造がより簡単な新規の改善された頂部放出型VCSELを提供し、より高い出力電力を生みだし、より高い効率性を有することを可能にする。【構成】 上部18および下部14のミラー積層部を有する中央能動層16を含むVCSELであり、1つのミラー積層部18内に円形のトレンチ20が形成されて、レーザ照射領域25を規定する。トレンチ20は、反射率を下げて、レーザが動作領域25の外側に照射されることを防ぎ、トレンチ20内の酸素注入物27が電流の分布を制限して、電力出力と効率とを最大にする。トレンチ20により、製造過程の大半を通じて自己整合が可能になる。
請求項(抜粋):
縦型空洞表面放出レーザ(10)の作成方法であって:第1および第2の対向する主表面をもつ基板(12)を設ける段階;前記基板(10)の前記第1主表面上に第1ミラー積層部(14)を付着する段階;前記第1ミラー積層部(14)上に能動層(16)を付着する段階;前記能動層(16)上に第2ミラー積層部(18)を付着する段階;前記第2ミラー積層部(18)内に動作領域(25)を規定する段階;および前記第2ミラー積層部(18)をエッチングして、前記動作領域(25)を囲むトレンチ(20)を形成し、前記トレンチ領域(20)と前記能動層(16)との間のレーザ(10)の体積内でのレーザ照射を行うために必要な量よりも低く反射率を充分に下げるために前記トレンチ(20)の深さを延長する段階;によって構成されることを特徴とする方法。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特許第4999843号

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