特許

J-GLOBAL ID：200903090950325598

ペリクル

発明者： 水野 文夫 ,  大塚 伸宏 ,  山口 繁彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-075692
公開番号（公開出願番号）：特開平7-175206
出願日： 1983年10月03日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 マスク基板の汚染や異物付着を防止できる。【構成】 透明のペリクル膜2と、マスク基板4に装着されるペリクル枠1とを備えてなるペリクルにおいて、ペリクル枠1が接着剤3によりマスク基板4に装着され、前記接着剤3は、接着剤層のみから形成されている。

請求項（抜粋）：

1.透明のペリクル膜と、マスク基板に装着されるペリクル枠とを備えてなるペリクルにおいて、ペリクル枠が接着剤によりマスク基板に装着され、前記接着剤は、接着剤層のみから形成されていることを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-121442
  
• 特開昭60-022130