特許
J-GLOBAL ID：200903090964733397
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282493
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218923
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高感度・高解像性を有し、EO /Ec が大きく抜け性、パターンプロファイルが良好で、プロキシミティー効果及びCDロスが小さいフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 可溶性樹脂(A)及び感放射線化合物(B)を主成分とするフォトレジスト組成物において、下記一般式(I)で表される化合物(C)を含有するフォトレジスト組成物。(上記式中、Xとしては-C(R1 )2 -、-O-、等を表し、nは2〜6の整数を表す。それぞれのXは同じでも異なっていてもよい。R1を複数有する場合、互いに異なっていてもよい。またArはそれぞれ水酸基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい炭素数5〜14のアリール基を示し、Arが2つ以上の置換基を有する場合、これらは同じでも異なっていてもよい。)
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂(A)及び感放射線化合物(B)を主成分とするフォトレジスト組成物において、下記一般式(I)で表される化合物(C)を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。【化1】(上記式中、Xは-C(R1 )2 -、-O-、=C=O、=C(O(R1 ))2、=S、=SO、=SO2 を表す。R1 は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、nは2〜6の整数を表す。それぞれのXは同じでも異なっていてもよい。R1を複数有する場合、それらは互いに異なっていてもよい。またArはそれぞれ水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニルオキシ基で置換されていてもよい炭素数5〜14のアリール基を示し、Arが2つ以上の置換基を有する場合、これらは同じでも異なっていてもよい。)
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 501
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 501
, H01L 21/30 502 R
