特許
J-GLOBAL ID：200903090966206696
レジスト用現像液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-297209
公開番号（公開出願番号）：特開平11-327162
出願日： 1998年10月19日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：
【要約】【課題】微細なレジストパターンにおいても、溶解部に対しては溶解性を促進し非溶解部に対しては溶解性を抑制する、溶解選択性に優れ、より短い時間で現像しうるレジスト用現像液を提供すること。【解決手段】塩基性有機化合物A及び塩基性化合物と塩を形成しうる有機化合物Bから選ばれた1種以上、及び/又は塩基性有機化合物Aと、塩基性化合物と塩を形成しうる有機化合物Bとから形成された塩Cから調製されてなるレジスト用現像液、並びに前記現像液を用いて現像する現像方法。
請求項（抜粋）：
塩基性有機化合物A及び塩基性化合物と塩を形成しうる有機化合物Bから選ばれた1種以上、及び/又は塩基性有機化合物Aと、塩基性化合物と塩を形成しうる有機化合物Bとから形成された塩Cから調製されてなるレジスト用現像液。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/32
, H01L 21/30 569 E
