ウエーハ処理用真空装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江原省吾 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112349
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321049
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】ウエーハ処理の均一性やウエーハ表面の汚染防止を図る。【構成】チャンバ1の複数個所に排気管21を配設し、これら排気管21にそれぞれ開閉式の排気バルブ22を有した排気系17、18、19、20を配設し、これらの排気系17、18、19、20をシーケンス制御することにより、真空排気時やウエーハ処理時のチャンバ内1の気流の流れを適宜に制御するように構成する。

請求項（抜粋）：

チャンバと、該チャンバ内へのガス注入系、及び該チャンバ内を排気する排気系とを備え、前記チャンバ内を真空排気した後所定のガス雰囲気に維持し、前記チャンバ内に配置されたウエーハの処理がなされるウエーハ処理用真空装置において、前記チャンバ壁面に複数箇の排気管を配設すると共にこれらの排気管に開閉式の排気バルブを有した排気系を接続し、これらの排気系をシーケンス制御するようにしたことを特徴とするウエーハ処理用真空装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , H01L 21/203 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/31 B

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