特許
J-GLOBAL ID：200903090967962982
排ガス処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
長島 悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-276011
公開番号（公開出願番号）：特開平9-220422
出願日： 1996年10月18日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】【課題】長期に亘って円滑かつ確実に除害処理できるようにする。また、除害処理によって発生した粉体を安全に廃棄処理できるようにする。【解決手段】?@ 粉体除去装置20が、上流側排ガス管42から吐出した排ガスを収容可能な収容室22と,この収容室22に配設されかつ内部空間35が外側のガイド面(32,33)に形成された通気口(34)を通して収容室22と連通するとともに下流側排ガス管43を介して除害手段11と接続された係合体31とを含み、係合体31のガイド面(32,33)が吸引手段(51)の駆動状態時に上流側排ガス管42から吐出した粉体含有ガスを案内して収容室22内に上下方向に旋回する旋回ガス流を形成可能に構成した。?A 粉体除去装置20の排出用接続部26と粉体回収ケース28の取入用接続部28aとに開閉弁(27A,27B)を設け、粉体回収ケース28内のガスを不活性ガスに置換可能な置換手段60を設けた構成とした。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置に排ガス送り管路を介して接続された乾式又は湿式の除害手段と、この除害手段とガス送り管路を介して接続された吸引手段とを備え、この吸引手段を駆動することにより半導体製造装置から排ガスを吸引して除害手段で除害処理可能な排ガス処理装置において、前記排ガス送り管路を形成する上流側排ガス管と下流側排ガス管との間に、前記排ガスに含有されている粉体を分離除去可能な粉体除去装置を設け、この粉体除去装置が、上流側排ガス管の一端部から吐出された粉体含有排ガスを収容可能な収容室と,この収容室に配設されかつ内部空間が外側のガイド面に形成された通気口を通して収容室と連通するとともに下流側排ガス管を介して前記除害手段と接続された係合体とを含み、係合体のガイド面が前記吸引手段の駆動状態時に上流側排ガス管の一端部から吐出した粉体含有排ガスを案内して収容室内に上下方向に旋回する旋回ガス流を形成可能に構成されていることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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