特許

J-GLOBAL ID：200903090979842281

露光装置及び露光方法

発明者： 馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-320495
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189442
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】 スループットの著しい低下を招くことなく、従来より一層微細なパターンを高解像力で露光する。【解決手段】 真空チャンバ16に投影光学系PLと電子光学系24とが並んで取り付けられ、投影光学系PL及び電子光学系24の各々で基板ステージ20に搭載された感応基板Wに露光できるように、干渉計システム(30X等)により基板ステージ20の位置が管理されている。このため、例えば、所定のパターンの大部分を光により感応基板W上に露光し、特に微細なパターンを電子線により露光する、あるいは光により感応基板W上にパターンを露光し、その露光されたパターンを修正するため、電子線により露光する等の同一の装置による光と電子線による組み合わせ露光が可能となる。

請求項（抜粋）：

感応基板上に所定のパターンを露光する露光装置であって、前記感応基板を搭載して2次元面内を移動する基板ステージと;前記基板ステージを収納する真空チャンバと;前記真空チャンバに取り付けられ、前記基板ステージに搭載された感応基板上に光によりパターンを露光する投影光学系と;前記投影光学系と並んで前記真空チャンバに取り付けられ、前記基板ステージに搭載された感応基板上に電子線によりパターンを露光する電子光学系と;前記投影光学系及び前記電子光学系の各々で前記基板ステージに搭載された感応基板に露光できるように前記基板ステージの位置を管理する干渉計システムとを有する露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 502 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 541 C