特許

J-GLOBAL ID：200903091003865569

パターン形成方法及び装置

発明者： 松岡 晃次
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-155086
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135142
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 安定したオフセットゲートもしくは、パターン寸法をアライメントズレなく形成するパターン形成技術を提供する。【構成】 段差基板21上にレジスト23を塗布する工程と、露光光源と基板21との角度が0度から90度の間の角度をもった状態で、基板21に露光光24を照射する工程と、露光された部分を現像する工程とを備えたパターン形成方法である。

請求項（抜粋）：

段差基板上にレジストを塗布する工程と、露光光源と基板との角度が0度から90度の間の角度をもった状態で、基板に露光光を照射する工程と、露光された部分を現像する工程とを備えたパターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  C23F 1/00 102

FI (3件)：

H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 502 A ,  H01L 21/30 569