特許

J-GLOBAL ID：200903091022651928

圧電体素子、インクジェット式記録ヘッドおよびそれらの製造方法

発明者： 邱 宏 ,  西脇 学 ,  角 浩二 ,  村井 正己
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-324819
公開番号（公開出願番号）：特開平11-157068
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 圧電体素子における低誘電率層を薄く形成する製造方法の提供。【解決手段】 導電性材料より構成される下部電極を形成する工程、下部電極の電界が印加されると体積変化を生ずる圧電性材料を塗布する工程、圧電性材料の塗布後、850°Cから950°Cの間の温度で焼成して圧電体層を形成する工程、および焼成された圧電体層に導電性材料より構成される上部電極を形成する工程を備える。上記温度で焼成することにより、低誘電率層の発達を極力抑えることができる。

請求項（抜粋）：

電極膜の間に圧電体層を挟んで構成される圧電体素子において、前記圧電体層に比べて誘電率の低い低誘電率層が、下電極膜に沿って10nm以下の厚みで設けられていることを特徴とする圧電体素子。

IPC (5件)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22

FI (4件)：

B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z