特許

J-GLOBAL ID：200903091023421420

混合容器の洗浄方法および洗浄装置

発明者： 山口 良二 ,  新田 博文 ,  黒瀬 賢
出願人/特許権者： 月島機械株式会社 ,  シーアイ化成株式会社
代理人 (1件)： 積田 輝正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-156086
公開番号（公開出願番号）：特開平10-328633
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：

【要約】【課題】 粉体や液体等の混合容器の内壁面を効率よく洗浄可能な洗浄方法と洗浄装置を提供する。【解決手段】 混合容器Aに被せて混合容器A内を密閉可能なフード1上に複数本のガイド棒9を立設し、ガイド棒9により昇降板10と載置板11とを水平状態で設置する。フード1と昇降板10との間に設けた回転軸5の下端にノズル2を固定し、昇降板10はガイド棒9にそって昇降可能とし、ノズル2は混合容器A内を水平方向に回転し、かつ、昇降可能としてある。

請求項（抜粋）：

混合容器Aの内壁面に付着している汚れの洗浄において、混合容器A内を水平方向に回転し、かつ、昇降可能なノズル2によって圧力流体の噴射圧により粒状の洗浄媒体を内壁面に対して噴出させ、汚れを剥離するようにして成ることを特徴とする混合容器の洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 9/093 ,  B08B 9/46 ,  G01N 21/17

FI (3件)：

B08B 9/093 ,  B08B 9/46 ,  G01N 21/17 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-205849   出願人：日本化成株式会社
• 多結晶シリコン製造用CVD反応器の清浄化法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-243209   出願人：ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
• 剥離洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-159108   出願人：大興電気株式会社
• 特開昭60-020277