特許
J-GLOBAL ID：200903091057116952
プラズマエッチング方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-066821
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249614
出願日： 1994年03月10日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】プラズマエッチング装置の構成を変えることなく、エッチング特性の変更を図る。【構成】プラズマ発生用コイル11に高周波電力を印加してプラズマ15を発生させ、プラズマを利用してエッチングを行うプラズマエッチングに於いて、前記プラズマ発生用コイルに印加する高周波電力を周期的に変調させることで、放電電流が時間的に変化し、電子温度が時間的に変化するのでプラズマの励起種の割合が変化し、エッチング特性が変わる。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生用コイルに高周波電力を印加してプラズマを発生させ、プラズマを利用してエッチングを行うプラズマエッチング方法に於いて、前記プラズマ発生用コイルに印加する高周波電力を周期的に変調することを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 C
