特許

J-GLOBAL ID：200903091058354733

位置検出装置及び方法、位置検出装置の収差測定方法及び調整方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法

発明者： 長山 匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-178764
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372406
出願日： 2001年06月13日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】 基板等の物体の位置情報を検出する位置検出装置の残存収差を正確に測定することができる位置検出装置の収差測定方法及び調整方法並びに残存収差が極力排除されて高い精度で位置情報を検出することができる位置検出装置及び方法を提供する。【解決手段】 ウェハW上に形成されたウェハマークWMに対して測定光IL1を照射する照射光学系と、ウェハマークWMからの光をX方向用CCD62及びY方向用CCD63へ導く検出光学系とを備えるアライメントセンサ35内に、検出光学系の残存収差を測定する収差測定装置70を備えた。収差測定測定装置70は、検出光学系の瞳空間に配置され、入射する光を波面分割するマイクロレンズアレイ71と、マイクロレンズアレイ71で形成されるスポット像を検出するCCD72とを備える。

請求項（抜粋）：

物体上に形成されたマークに対して光を照射する照射光学系と、前記マークからの光を検出面へ導く検出光学系と、前記検出面に配置され、前記物体上に形成されたマークの位置情報を検出するために前記検出面に導かれた光を光電変換する位置検出用の光電検出器とを備えた位置検出装置において、前記検出光学系の残存収差を測定する収差測定装置を備えることを特徴とする位置検出装置。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G01M 11/02 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G01B 11/00 C ,  G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 525 R ,  G02B 7/11 M

Fターム (36件)：

2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065BB01 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065EE08 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL01 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL47 ,  2F065LL50 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ28 ,  2G086HH06 ,  2H051AA10 ,  2H051BA72 ,  2H051CD10 ,  2H051CD29 ,  2H051CD30 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06