特許
J-GLOBAL ID：200903091061240242
気相成長方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-314414
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152207
出願日： 1991年11月28日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】気相成長速度を高めると共に、膜厚分布の良い気相成長膜を得ることのできる気相成長方法を提供する。【構成】ウェハWを気相成長温度に加熱し、該ウェハWに反応ガスGを接触させてウェハWの表面に気相成長膜を成長させる方法において、前記ウェハWをその中心を回転中心として600〜1900rpm で回転させると共に、50〜400Torrの圧力下で気相成長させるものである。
請求項（抜粋）：
ウェハを気相成長温度に加熱し、該ウェハに反応ガスを接触させてウェハ表面に気相成長膜を成長させる方法において、前記ウェハをその中心を回転中心として600〜1900rpm で回転させると共に、50〜400Torrの圧力下で気相成長させることを特徴とする気相成長方法。
引用特許：
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