特許
J-GLOBAL ID：200903091073351635
電子放出素子及びその製造方法とそれを用いた電子源,撮像装置,画像形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-090626
公開番号（公開出願番号）：特開2000-285790
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：
【要約】【課題】 陽極酸化絶縁層について表面の平面性を良好にできて耐圧性も向上でき、放出電子の軌道を安定化でき、これを用いた電子源,撮像装置,画像形成装置について、扱う情報信号の再現性(解像度)を向上できる電子放出素子及びその製造方法とそれを用いた電子源,撮像装置,画像形成装置を提供する。【解決手段】 基板1上に、下部電極2,陽極酸化絶縁層3,上部電極4を順に積層し、陽極酸化絶縁層3はポーラス層3bを含む多層構造にして、少なくとも最上層は表面が平坦で耐圧が高い緻密層3aにする。陽極酸化絶縁層3に、上下に貫通する細孔5を形成し、細孔5内に炭素6を堆積させるが、これは下部電極2と電気的に接続する状態に堆積させて電子を放出する電子放出部となす。陽極酸化絶縁層3の最上層を緻密層3aとしたので、表面の平面性を良好にでき、その上に形成される上部電極4の平面性を良好に保持できる。
請求項（抜粋）：
基体上に、下部電極,細孔を有する陽極酸化絶縁層,上部電極の順なる積層構成を有し、前記陽極酸化絶縁層の細孔内に、少なくとも炭素を有する電子放出素子において、前記陽極酸化絶縁層はポーラス層を含む多層構造にして、少なくとも最上層は表面が平坦で耐圧が高い緻密層としたことを特徴とする電子放出素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 1/30 F
, H01J 9/02 B
