特許

J-GLOBAL ID：200903091075861126

磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッド、並びにこれらの製造方法

発明者： 鈴木 忠男 ,  今藤 由喜雄 ,  菅野 佳弘
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-241405
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064022
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 磁気抵抗効果膜の磁気特性が劣化せず、その接続部が損傷されることがなく、コンタクト性の良い磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッド、並びにこれらの製造方法を提供すること。【解決手段】 磁気抵抗効果膜11上に形成する絶縁層をアルミナからなる下部絶縁層16a及びSiO2 からなる上部絶縁層16bの異なる材料による2層構造とし、コンタクトホール61A、61Bの形成に際し、上部絶縁層16bはドライエッチングにより、下部絶縁層16aはウエットエッチングによりエッチングする。

請求項（抜粋）：

磁気抵抗効果膜上に設けられた絶縁層の一部が除去され、この除去部に被着された電極と前記磁気抵抗効果膜とが接続されている磁気抵抗効果素子において、前記絶縁層のうち少なくとも前記磁気抵抗効果膜に接する絶縁層部分に、ウエットエッチングによる前記除去部が形成されており、この除去部の底面においても前記磁気抵抗効果膜が平坦性を保持していることを特徴とする磁気抵抗効果素子。