特許

J-GLOBAL ID：200903091084652955

塗布方法及び塗布装置

発明者： 加藤 光幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-333316
公開番号（公開出願番号）：特開2001-149840
出願日： 1999年11月24日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 塗液を基材上に間欠して塗布する作業を迅速に行うことを可能とし、生産性良好に電極を形成することを可能をする塗布方法及び塗布装置を提供すること。【解決手段】 走行する基材1に対して、シャッター9の開閉により塗液8を塗布した塗工部分15と、前記塗液8を塗布しない未塗工部分16を交互に形成する塗布方法において、前記基材1の走行速度Vmを測定して、前記走行速度Vmと前記塗工部分15もしくは未塗工部分16の長さから、前記塗工部分15もしくは前記未塗工部分16を形成するために必要な領域形成時間Tcを算出して、前記シャッター9の開閉速度Vsに基づいて、前記シャッター9の移動すべき位置までに必要とする移動時間Tmを算出して、前記移動時間Tmと前記領域形成時間Tcを比較して、前記移動時間Tmが前記領域形成時間Tcよりも大きい場合には、前記シャッター9の移動量を補正する。

請求項（抜粋）：

走行する基材に対して、シャッターの開閉により塗液を塗布した塗工部分と、前記塗液を塗布しない未塗工部分を交互に形成する塗布方法において、前記基材の走行速度を測定して、前記走行速度と前記塗工部分もしくは未塗工部分の長さから、前記塗工部分もしくは前記未塗工部分を形成するために必要な領域形成時間を算出して、前記シャッターの開閉速度に基づいて、前記シャッターの移動すべき位置までに必要とする移動時間を算出して、前記移動時間と前記領域形成時間を比較して、前記移動時間が前記領域形成時間よりも大きい場合には、前記シャッターの移動量を補正することを特徴とする塗布方法。

IPC (3件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  H01M 4/04

FI (3件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z ,  H01M 4/04 Z

Fターム (26件)：

4D075AC02 ,  4D075AC72 ,  4D075AC84 ,  4D075AC93 ,  4D075AC94 ,  4D075AC99 ,  4D075CA48 ,  4D075CB37 ,  4D075DA04 ,  4D075DB20 ,  4D075DC19 ,  4D075EA05 ,  4F041AA05 ,  4F041AA16 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041BA35 ,  4F041BA57 ,  4F041CA02 ,  4F041CA17 ,  4F041CA22 ,  5H014AA04 ,  5H014BB08 ,  5H014BB17 ,  5H014CC07