特許

J-GLOBAL ID：200903091085086627

ポリアルキレンエ-テルグリコ-ルの製造方法およびそれに用いる無水酢酸の精製方法

発明者： 小林 光治 ,  村井 信行
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010262
公開番号（公開出願番号）：特開2000-212119
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 着色の少ないポリアルキレンエーテルグリコール(ポリテトラメチレンエーテルグリコールなど)を製造するのに適した無水酢酸を提供する。【解決手段】 粗無水酢酸を金属酸化物(アルミナ、チタニア等)及び/又は複合酸化物(ゼオライト、活性白土、ジルコニアシリカなど)で接触処理することを特徴とする無水酢酸の精製方法。

請求項（抜粋）：

粗無水酢酸を金属酸化物及び/又は複合酸化物で接触処理することを特徴とする無水酢酸の精製方法。

IPC (8件)：

C07C 51/573 ,  B01D 3/00 ,  B01D 15/00 ,  C07C 41/01 ,  C07C 43/13 ,  C07C 53/12 ,  C08G 65/20 ,  C08G 65/26

FI (8件)：

C07C 51/573 ,  B01D 3/00 A ,  B01D 15/00 K ,  C07C 41/01 ,  C07C 43/13 A ,  C07C 53/12 ,  C08G 65/20 ,  C08G 65/26

Fターム (17件)：

4D017AA03 ,  4D017CA05 ,  4D017CB01 ,  4D017DA01 ,  4D017EA03 ,  4D076AA12 ,  4D076AA22 ,  4D076BA01 ,  4D076BB01 ,  4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD17 ,  4H006BS10 ,  4H006BS80 ,  4J005AA04 ,  4J005AA12 ,  4J005BB02