特許

J-GLOBAL ID：200903091089698201

レーザビーム合成装置

発明者： ベンジャミン ディンゲル
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 桂木 雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-214117
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043537
出願日： 1995年07月31日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【目的】 多数の半導体レーザ光源からのレーザビームを高効率にかつビーム集光性の劣化を起こすことなく合成するレーザビーム合成装置を提供する。【構成】 1つのレーザビーム14dをミラー13dで反射させ、そのレーザビーム14dの周りに、このレーザビームと進行方向及び中心軸を共通とする複数の円環状レーザビームをビーム径変換器12a〜12c及び開口ミラー13a〜13cを用いて合成する。開口ミラー13cはレーザビーム14dのビーム径と一致する開口部を有し、開口ミラー13bはレーザビーム15cのビーム径と一致する開口部を有し、開口ミラー13aはレーザビーム15bと一致する開口径を有する。円環状レーザビームは、1対の円錐ミラー201a及び202a、あるいは円錐レンズ41、51によって生成することもできる。

請求項（抜粋）：

複数のレーザビームを合成する装置において、第1レーザビームを一定方向に反射する第1反射手段と、前記第1レーザビームを除く他のレーザビームをレーザビーム毎に径が順次変化する円環状レーザビームに変換するビーム変換手段と、前記径が小さい円環状レーザビームが前記径の大きい円環状レーザビームによって順次取り巻かれるように、前記複数の円環状レーザビームを前記第1レーザビームに順次合成するビーム合成手段と、からなることを特徴とするレーザビーム合成装置。

IPC (3件)：

G02B 27/10 ,  H01S 3/09 ,  H01S 3/094

FI (3件)：

G02B 27/10 ,  H01S 3/09 ,  H01S 3/094 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-153024
  
• レーザ光合成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-273703   出願人：株式会社東芝
• 特開平2-222918