膜形成装置及び膜形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216669
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114167
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】基板が大型化しても,所定の回転速度で基板を回転させることで処理液使用量を低減化し,かつ基板上に均一な処理液の膜を形成する。【解決手段】駆動モータ68に駆動プーリ69を装着する。LCD基板Gを吸着するスピンチャック40の回転軸43に従動プーリ66,90を装着する。従動プーリ66と駆動プーリ69との間にベルト70を,従動プーリ67と駆動プーリ69との間にベルト71を,従動プーリ90とエアモータ91の駆動軸92に装着された駆動プーリ93との間にベルト94を各々掛け渡す。従動プーリ97とエアモータ99の駆動プーリ101との間にベルト98を掛け渡す。駆動モータ68の駆動をエアモータ91,99が補助することにより,大型化したLCD基板Gを所定の回転加速度で回転させることができる。

請求項（抜粋）：

基板を回転させる駆動手段と,基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備え,基板に対して前記処理液供給手段から処理液を供給し,処理液を前記駆動手段の駆動により回転する基板上に拡散させて,前記処理液の膜を基板上に形成する膜形成装置であって,前記駆動手段の駆動を補助する補助駆動手段を備えたことを特徴とする,膜形成装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , B05D 1/40 , G02F 1/13 101 , G03F 7/16 501

FI (6件)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , B05D 1/40 A , G02F 1/13 101 , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 569 C

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭58-182825
特開昭56-081159
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-111139 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (3件)

特開昭58-182825
特開昭56-081159
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-111139 出願人：東京エレクトロン株式会社

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