特許
J-GLOBAL ID:200903091109108082

光学式化学蒸着システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-005784
公開番号(公開出願番号):特開平5-267177
出願日: 1993年01月18日
公開日(公表日): 1993年10月15日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 光学式化学蒸着反応室内の反応ガスから、光を通し且つこの光を反応室に導入する窓の表面上に材料が蒸着しないようにするための装置及び方法を提供する。【構成】 反応室と、反応室の室内に配設され、ウェーハ11を支持するサスセプタ2と、流入ポートを介して反応ガスを反応室へ供給する反応ガス源と、ハウジングに対し密封状態となるように配置され、反応室の一部を画成すると共に、各々の長さと直径の比がパージガスの流動状態を一次元とするに十分な比である、細長い光管開口部22を複数個有するカバーとを有する。複数の透明窓がカバーにシールされた関係で配置され、これらの窓は光管開口部の各々の外端を画成する。紫外線が光管開口部を通して導入され、これらの開口部は厚いガス層をつくり、反応ガスの反応種はこのガス層を通って拡散し、窓表面に到らなければならない。
請求項(抜粋):
光学式化学蒸着システムであって、(a)半導体(4)を有する反応室(1A)と、(b)前記反応室の室内に配設され、半導体ウェーハ(11)等の基材を支持するサスセプタ(2)と、(c)前記ハウジングの流入ポート(41)を介して反応ガスを前記反応室に導入する反応ガス源と、(d)前記ハウジングに対し密封状態となるように配置され、前記反応室の一部を画成するともに各々の長さと直径の比がパージガスの流動状態を一次元とするに十分な比である、細長い光管開口部を複数個有するカバー(25)と、(e)前記光管開口部から紫外線を前記反応室の室内に供給する紫外線源(32)とを有し、前記反応ガス中の反応分子が前記紫外線源と前記反応室との間の透明な表面(30又は32)に達せず、該表面に蒸着しないようにしたことを特徴とする光学式化学蒸着システム
引用特許:
審査官引用 (1件)

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