光走査装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-114740
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305155
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、光ファイバとの光結合効率を減少させることなくレーザ光出力の安定した光走査装置を提供する。【解決手段】半導体レーザと、集光レンズと、端面が斜めに研磨された光ファイバとを有する光走査装置において、半導体レーザのレーザ光が、光ファイバの軸に斜めに入射するような結合部を有する光走査装置とする。

請求項（抜粋）：

半導体レーザと、半導体レーザから発せられたレーザ光を集光し光軸と同軸となるように配置されるレンズと、集光されたレーザ光を伝播させる斜め研磨端面を持つ光ファイバとを有し、光ファイバから出射されるレーザ光を走査し、感光体に潜像を形成する光走査装置において、前記レンズの光軸に対し前記光ファイバの軸を斜めに保持する結合部を設けたことを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , G02B 26/10 102 , B41J 2/44

FI (3件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 102 , B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (5件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-095306 出願人：日立工機株式会社
特開昭60-191211
レーザビーム入射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-007472 出願人：石川島播磨重工業株式会社

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