基板の洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：笹島富二雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309054
公開番号（公開出願番号）：特開平5-143981
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】磁気ディスク、光ディスク、液晶ディスプレイなどに用いられる基板の洗浄方法を提供する。【構成】基板をオゾン環境下に置き、同時にこの基板に紫外線を照射することにより、紫外線による有機物の分解と、分解物のオゾンによる酸化作用とを用いて、基板表面を清浄化する。具体的には、空気中に基板を置き、この基板に184.9mmと 253.7mmの波長を含む紫外線を照射することにより、空気中のO2 からO3 を発生せしめて、分解物を酸化する。

請求項（抜粋）：

基板をオゾン環境下に置き、同時にこの基板に紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4件)：

G11B 5/84 , B08B 7/00 , G03F 1/08 , G11B 7/26 521

前のページに戻る