特許

J-GLOBAL ID：200903091119784345

立方晶炭化タングステン膜の製造方法及び装置

発明者： 福田 健三 ,  亀山 哲也 ,  本江 秋弘
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  日本高周波株式会社
代理人 (2件)： 菅 直人 (外1名) ,  菅 直人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257043
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070229
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】【目的】プラズマ気相合成法を用いて、任意の基板上に任意の厚さの立方晶炭化タングステン膜を製造する方法および装置の提供。【構成】W、WC、WO3 、W(CO)6 のうちの一つと炭化水素ガスとをプラズマ中で気相反応させ生成する立方晶炭化タングステンを超急冷により凍結して基板上に析出させる方法。少なくとも一つの熱プラズマ発生手段を備えた化学反応装置において、熱プラズマの尾炎部に冷却した基板を置き、気相反応生成物を超急冷して基板上に析出させる(前記方法を実施する)装置。【効果】従来の六方晶の膜よりも更に優れた工具用膜として利用することができる立方晶炭化タングステンを主成分とする膜の合成が可能となった。又、工具用膜のみならず触媒膜及びガス分離膜としてもその利用が可能となった。

請求項（抜粋）：

タングステンまたはタングステン化合物のうちのいずれか一つの原料粉体と、炭化水素ガスとを、高周波プラズマまたは直流プラズマ中に導入し、プラズマ中で気相反応を行わせるとともに、反応生成物を超急冷させて基板上に膜として析出させることを特徴とする立方晶炭化タングステン膜の製造方法。

IPC (2件)：

C04B 35/56 ,  C01B 31/34