特許
J-GLOBAL ID:200903091127696919

化学気相蒸着法による薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-278869
公開番号(公開出願番号):特開平11-117069
出願日: 1997年10月13日
公開日(公表日): 1999年04月27日
要約:
【要約】【課題】 金属アルコキシド、共沸性有機溶媒及びキレート化剤よりなる原料を用いて、CVD法で薄膜を形成する際に、原料の大容量供給ができ、加水分解安定性を高めることが可能な、化学気相蒸着法による薄膜形成方法を提供する。【解決手段】 金属アルコキシド、共沸性有機溶媒及びキレート化剤からなる原料をキャリアーガスと共に反応領域に導入し、化学気相蒸着法により、基材上に金属酸化物薄膜を形成する。
請求項(抜粋):
金属アルコキシド100重量部に対して共沸性有機溶媒5〜80重量部、及び金属アルコキシドに対して2〜4倍モルのキレート化剤を添加してなる原料をキャリアーガスと共に反応領域に導入し、化学気相蒸着法により、基材上に金属酸化物薄膜を形成することを特徴とする化学気相蒸着法による薄膜形成方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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