特許
J-GLOBAL ID：200903091131587881
投影光学系の検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-054213
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217872
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 走査型電子顕微鏡を使用することなく高精度且つ高速に投影光学系の非対称収差量を計測する。【構成】 1回目の露光で格子状パターン14,15を露光し、2回目の露光で格子状パターン16,17を露光し、3回目の露光で遮光パターンの像18,19を露光して、現像後に両端のレジストパターン20及び21を得る。レジストパターン20及び21のそれぞれの長さL1及びL2の差より投影光学系の非対称収差量を求める。
請求項（抜粋）：
表面に感光層が形成された感光基板を所定の露光基準面に載置し、該感光基板にマスクのパターンを露光する露光装置の投影光学系の結像特性を検査する方法において、計測方向に周期的な計測用のパターンが形成されたマスクと、前記計測用のパターンの内の所定の2箇所のパターンのみに対応するマスキング手段とを用い、前記計測用のパターンの像を前記投影光学系を介して前記感光基板に露光した後に、該露光された計測用のパターンの像の内の前記所定の2箇所のパターンに対応する像を抽出するための露光を行い、該抽出された2箇所のパターンの像の寸法より前記投影光学系の収差の方向及び収差量を求める事を特徴とする投影光学系の検査方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 D
, H01L 21/30 301 V
, H01L 21/30 341 K
