特許
J-GLOBAL ID：200903091133220128
レーザーアブレーション加工用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-034943
公開番号（公開出願番号）：特開平8-224686
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【目的】 レーザーアブレーション加工において三次元加工を容易にするマスクを提供する。【構成】 レーザーアブレーション加工用マスクの構成において、基板上の所定の位置に成膜された光学膜の透過率が選択的に場所によって異なっている。【効果】 光学膜の透過率が選択的に場所によって異なっているため、場所によって選択的に加工レートが変わり、その結果加工深さが場所によって異なった三次元的な加工形状が達成できる。
請求項（抜粋）：
透過性基板上の所定の位置に透過性の低い材料からなる所定の形状をした光学膜を形成してなるレーザーアブレーション加工用マスクにおいて、前記光学膜の透過率が選択的に場所によって異なっていることを特徴とするレーザーアブレーション加工用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/06 J
, B23K 26/00 A
