露光装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-294869
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195605
出願日： 1991年04月25日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】高精度、高速なアライメントを可能とする。【解決手段】投影光学系の外部に設けたオフ・アクシス・アライメント系とTTL(又はTTR)アライメント系との両方によって同時に検出可能な基準マークの対を、感光基板保持用のステージ上に並置して、ベースライン計測を行なう。

請求項（抜粋）：

露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークとを有するマスクを保持して、移動可能なマスクステージと、前記マスクのパターンが露光される被露光領域に対して一定の位置関係で設けられた複数のマークを有する感光基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記マスクのパターンを前記感光基板の被露光領域に結像投影するための投影光学系と、該投影光学系の投影視野の外側であって、該投影光学系の光軸から一定間隔だけ離れた第1位置に検出中心を有し、前記感光基板上のマークを光学的に検出可能な第1のマーク検出手段と、前記マスクの複数のマークのうち、前記投影光学系の視野内のほぼ一定した第2位置に存在する特定のマークを光学的に検出する第2のマーク検出手段とを備えた投影露光位置において、前記基板ステージの一部に設けられ、前記第1のマーク検出手段によって検出可能な第1基準マークと、前記投影光学系を介して前記第2のマーク検出手段によって検出可能な第2基準マークとを、前記第1位置と第2位置の間隔に応じた一定の位置関係で並設した基準マーク板と;前記第2のマーク検出手段によって前記第2基準マークが検出されるように、前記基板ステージを位置決めする第1位置決め手段と;前記第2のマーク検出手段によって前記マスクの特定のマークと前記第2基準マークとの両方を検出し、該2つのマークが所定の位置関係になるように前記マスクステージを位置決めする第2位置決め手段と;前記第1のマーク検出手段によって前記検出中心と前記第1基準マークとの位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量をベースライン誤差量として記憶する記憶手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 525 C , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 525 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭63-224326
特開昭62-248224
特開平1-309324

前のページに戻る