特許
J-GLOBAL ID：200903091164209645
位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-026484
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234498
出願日： 1994年02月24日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 半遮光部と光透過部とを備える位相シフトマスクについて、近接効果によるサブピークを低減して、プロセスの余裕度を高め、実用化が容易な位相シフトマスクを提供する。【構成】 半遮光部11と、第1の光透過部3Aと、該第1の光透過部3Aと半遮光部11を介して隣り合う第2の光透過部3Bとを備え、上記第1の光透過部3Aと第2の光透過部3Bとは、互いに位相を異ならしめて透過光を透過させる。
請求項（抜粋）：
半遮光部と、第1の光透過部と、該第1の光透過部と半遮光部を介して隣り合う第2の光透過部とを備え、上記第1の光透過部と第2の光透過部とは、互いに位相を異ならしめて透過光を透過させることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
