特許

J-GLOBAL ID：200903091173983922

浄水設備

発明者： ▲陰▼山 晃治 ,  久保田 昌良 ,  森 利克 ,  渡辺 昭二 ,  芳賀 鉄郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021742
公開番号（公開出願番号）：特開平11-216497
出願日： 1998年02月03日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】水中の微生物あるいは原虫を高効率に不活性化する浄水設備の提供。【解決手段】浄水処理施設および下水処理施設において、原水中の微生物あるいは原虫の外殻に損傷を与えるための物理的処理装置(例えば超音波処理装置)と、損傷部から外殻の内部を酸化して微生物あるいは原虫を不活性化するための化学的処理装置(例えば、オゾン処理装置、塩素処理装置、紫外線処理装置)とを備える。

請求項（抜粋）：

浄水処理施設および下水処理施設において、原水中の微生物あるいは原虫の外殻に損傷を与えることのできる物理的処理装置と、損傷から外殻の内部を酸化できる化学的処理装置と、を備えたことを特徴とする浄水設備。

IPC (9件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78

FI (11件)：

C02F 9/00 502 Q ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 B ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/76 A ,  C02F 1/78