特許

J-GLOBAL ID：200903091176006529

露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-299331
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118783
出願日： 1999年10月21日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 露光光として真空紫外光を使用する場合でも、光路上での透過率の低下を抑制して、高い露光強度が得られるようにする。【解決手段】 真空紫外域の露光光ILのもとで、レチクル12のパターンの像が投影光学系PLを介して、ウエハ室24内のウエハステージ18a上のウエハ17aに投影される。投影光学系PLとウエハ17aとの間に、露光光の光路が開口部15aとされた送風板15を設置し、送風板15より上の第1の空間S1中の気体を排気口G1eから排気して純化した後、給気口G1iから再び空間S1中に送風することによって、ウエハ17aからの脱ガスを効率的に排気する。送風板15より下の第2の空間S2内には、第1の空間S1内の気体に比べて不純物の濃度の許容度が緩く管理された気体を供給する。

請求項（抜粋）：

第1物体のパターンを通過した露光ビームで投影系を介して第2物体を露光する露光方法において、前記投影系と前記第2物体との間の空間を前記投影系側の第1の空間と前記第2物体側の第2の空間とに分けて、該第1及び第2の空間の境界部の少なくとも前記露光ビームが通過する領域に開口部を設け、前記第1の空間側に前記露光ビームを透過する第1気体を供給し、前記第1の気体は、前記第2の空間側の第2の気体に比べて前記露光ビームを吸収する不純物の混入率が低いことを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502

FI (2件)：

G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (22件)：

2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097AB07 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA22 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046CC20 ,  5F046DA06 ,  5F046DA08 ,  5F046DA14 ,  5F046DA27 ,  5F046DB05