特許

J-GLOBAL ID：200903091190759696

改質ポリテトラフルオロエチレンとその製造方法

発明者： 田畑 米穂 ,  乙幡 和重 ,  池田 哲也 ,  上野 浩二 ,  吉田 祐一 ,  大島 明博 ,  瀬口 忠男 ,  工藤 久明
出願人/特許権者： 株式会社レイテック ,  日本原子力研究所
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-266257
公開番号（公開出願番号）：特開平6-116423
出願日： 1992年10月05日
公開日（公表日）： 1994年04月26日
要約：

【要約】【目的】 耐放射線性に優れ、かつゴム特性を有する改質PTFE、とその原料PTFEに対し電離性放射線を照射して改質PTFEの製造方法を提供するにある。【構成】 原料PTFEの結晶融点以上の温度で酸素不存在下において1kGy以上の電離性放射線を照射することにより、耐放射線性に優れ、かつゴム特性を有する改質PTFEを製造する。

請求項（抜粋）：

放射線照射による破断伸びの劣化が抑制された並びに破断強度の劣化が抑制された性能を有する改質ポリテトラフルオロエチレン。

IPC (2件)：

C08J 7/00 305 ,  C08F214/26 MKP