特許
J-GLOBAL ID：200903091194567783
磁気記録媒体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-257947
公開番号（公開出願番号）：特開平5-334670
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】 高い保磁力を有する高記録密度用の磁気記録媒体を低い基板温度で製造することを目的とする。【構成】 プラズマ生成室5にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して、低ガス圧中でECRプラズマを生成する。このECRプラズマを電磁石3および4で発生した発散形磁界によりプラズマ引出し窓8からプラズマ生成室5の外側の成膜室7に引出す。このプラズマ流中のイオンの一部を利用して、ECRプラズマ流を囲むように配置され、かつ少なくとも表層部分にCo-Cr合金を含む円筒形ターゲット6をスパッタする。次いで、スパッタされた粒子およびECRプラズマは成膜室7の中に設置した基板ホルダー9上に固定された基板10に供給され、Co-Cr合金薄膜が形成される。
請求項（抜粋）：
発散形の磁界の中に備えられたプラズマ生成室にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して電子サイクロトロン共鳴により該プラズマ生成室内にプラズマを生成する工程と、前記発散形の磁界により、前記プラズマ生成室のプラズマ引出し窓から前記プラズマを成膜室に引出す工程と、この引出されたプラズマ流を囲むように同軸状に配置され、かつ少なくとも表層部分にCo-Cr合金を含むターゲットを前記プラズマでスパッタすることにより、前記成膜室内に設置した基板上に薄膜を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4件)：
G11B 5/85
, G11B 5/66
, H01F 10/16
, H01F 41/18
