特許

J-GLOBAL ID：200903091211873150

光磁気ディスクの製造方法

発明者： 内山 謙治 ,  小須田 正則
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244303
公開番号（公開出願番号）：特開平6-068533
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】 磁界感度が高くしかもジッターの低い光磁気ディスクを製造できる方法を提供する。【構成】 基板上に、下部誘電体層、記録層および上部誘電体層をこの順で有する光磁気ディスクを製造する際に、下部誘電体層の表面をエッチングした後、記録層を形成する工程において、エッチング終了から記録層形成開始までの待ち時間を12〜45秒間とする。

請求項（抜粋）：

基板上に、下部誘電体層、記録層および上部誘電体層をこの順で有する光磁気ディスクを製造する方法であって、下部誘電体層の表面をエッチングした後、記録層を形成する工程を有し、エッチング終了から記録層形成開始までの待ち時間を12〜45秒間とすることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。