特許
J-GLOBAL ID：200903091212393763
磁気ディスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287327
公開番号（公開出願番号）：特開平5-274663
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】【構成】 磁気ディスクを構成する非磁性基板のテクスチャリング加工をまず、第1の研磨として平均粒径が0.5-9μmの研磨砥粒の研磨テープにより行い、続いて、第2の研磨として平均粒径が、0.01-5μmの研磨砥粒よりなるスラリーとバフテープとを用いて行う。【効果】 磁気ディスク基板表面のテクスチャリングの中心線平均粗さ(Ra)を維持したまま、磁気ディスクのグライド特性を大きく向上することができるので、C.S.S.耐久性が良好で、かつ低浮上量ヘッドに対しても優れたグライド特性を有する。
請求項（抜粋）：
非磁性基板の表面に同心円上の微細な凸凹を形成するテクスチャリング加工をした後、該表面上に少なくとも下地膜、磁性膜、保護潤滑膜を積層してなる磁気ディスクの製造方法において、テクスチャリング加工として該非磁性基板の表面を平均粒径が0.5-9μmの研磨砥粒の研磨テープにより第1の研磨を施した後、その同一表面を平均粒径が、0.01-5μmの研磨砥粒よりなるスラリーとバフテープとを用いて第2の研磨を施すことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2件)：
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