特許

J-GLOBAL ID：200903091216980159

アクリル系ポリマーを基材とする安定なミクロ分散体とミクロゲル、それらの製造方法およびそれらを含有する組成物、特に化粧用組成物

発明者： クランツ, アニー ,  リエス, アンリ-ジェラール ,  メイベック, アラン ,  トランシャン, ジャン-フランソワ
出願人/特許権者： エル.ヴェ.エム.アッシュ. ルシェルシェ
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-509412
公開番号（公開出願番号）：特表平9-503241
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】本発明は、ブロック共重合体からなる安定剤の存在下、反応媒体として用いた有機溶媒中でアクリル系ポリマー類からなる安定なミクロ分散体粒子の製造方法に関し、前記アクリル系ポリマーが、ポリメチルメタクリレート (PMMA) とポリ第三ブチルアクリレート (PtBuA) に基づいたブロック共重合体の存在下で、少なくとも1種のアクリル系モノマーをラジカル重合してえられることを特徴とする。本発明は上記製造方法によって得られるミクロ分散体並びにこの分散体から作られたミクロゲルおよび組成物、特にマニキュアなどの化粧品組成物にも関する。

請求項（抜粋）：

ブロック共重合体からなる安定剤の存在下、反応媒体として用いた有機溶媒中のアクリル系ポリマー類からなる安定なミクロ分散体粒子の製造方法で、前記アクリル系ポリマーが、ポリメチルメタクリレート(PMMA)とポリ第三ブチルアクリレート(PtBuA)を基にしたブロック共重合体の存在下で少なくとも1種のアクリル系モノマーをラジカル重合してえられることを特徴とする、。

IPC (6件)：

C08F 2/08 MAX ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/043 ,  C08F120/12 MLY ,  C08F287/00 MQX ,  C08L 33/06 LTB

FI (7件)：

C08F 2/08 MAX ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 R ,  A61K 7/043 ,  C08F120/12 MLY ,  C08F287/00 MQX ,  C08L 33/06 LTB