半導体基板用プラズマ表面処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石井暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-089281
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286237
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】半導体基板の表面処理に際して、その表面との間にマイクロ波によるプラズマを発生させるラジアルラインスロットアンテナにおいて、そのアンテナガイド2内の誘電体板6の下面側に配設したスロット板7における熱膨張による歪み変形を阻止して、表面処理の均一化を図る。【解決手段】前記スロット板7を、金属の薄膜層にして、前記誘電体板6の下面に密着して形成するか、前記誘電体板6の厚み内に埋設する。

請求項（抜粋）：

偏平状の凹所を形成した金属製のアンテナガイドと、その凹所内に装填した円盤型の誘電体板と、この誘電体板と平行に延びる金属製のスロット板とから成り、前記アンテナガイドに、マイクロ波を導入する導波管を接続して成るラジアルラインスロットアンテナにおいて、前記スロット板を、金属の薄膜層にして、前記誘電体板の下面に密着して形成したことを特徴とする半導体基板用プラズマ表面処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H05H 1/46 B , H05H 1/46 M

Fターム (17件)：

5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BB29 , 5F004BB30 , 5F004BC08 , 5F004DB01 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045BB02 , 5F045DP01 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EH01 , 5F045EH02 , 5F045EH08

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