特許

J-GLOBAL ID：200903091227173387

光輝性ホログラム装飾シート及びその中間シートの製造方法

発明者： 三好 誠治 ,  高橋 正史 ,  岸田 広史
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213989
公開番号（公開出願番号）：特開平6-055633
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】【目的】 外光が反射されて種々のホログラム反射光が表面に形成される光輝性シートのホログラムエンボス層が効率的に短時間で形成されるようにすると共に、このエンボス層の凹凸面をシャープに仕上げることができ、さらに、絵柄層の絵柄に合わせてホログラムエンボス層を形成することができる光輝性ホログラム装飾シートの製造方法を提供する。【構成】 ベースシート2にポリエステル層4と光反射層6と絵柄層8を、順次、形成した後、絵柄層8に透明な常温硬化型樹脂10を塗布する。次いで、常温硬化型樹脂10を半乾燥させた後、この常温硬化型樹脂10の表面に所望のホログラム装飾パターンを有するホログラムエンボス版による賦型を施し、ホログラムエンボス層10aを形成する。そして、このホログラムエンボス層10aを、再度、乾燥させて、これを完全に硬化させる。

請求項（抜粋）：

光反射層(6)を有する基材シート(7)に透明な常温硬化型樹脂(10)を塗布する塗布工程(C1)と、該常温硬化型樹脂(10)を半乾燥させる第1乾燥工程(D1)と、半乾燥せしめられた常温硬化型樹脂(10)表面にホログラムエンボス版により所望のホログラム装飾パターンを賦型してホログラムエンボス層(10a)を形成する賦型工程(E1)と、該ホログラムエンボス層(10a)を、再度、乾燥させる第2乾燥工程(F1)とを有することを特徴とする光輝性ホログラム装飾シートの製造方法。

IPC (4件)：

B29C 59/00 ,  B32B 3/26 ,  B32B 7/02 103 ,  G03H 1/18