特許

J-GLOBAL ID：200903091234874811

基板保持装置およびこれを用いた露光装置

発明者： 原 真一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267913
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092738
出願日： 1996年09月18日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 ピンチャック型のウエハチャック等において、ウエハとウエハチャックの伝熱を強化する。【解決手段】 ピンチャック型のウエハチャックE1 は、本体1の凹所1aに多数の突起1cを有し、これらと外周リブ1bの上端にウエハW1 を吸着する。凹所1aは、真空排気ライン4によって真空排気され、貫通孔5aから導入されたヘリウムガスによって減圧雰囲気に制御される。凹所1aのヘリウムガスは、ウエハW1 の放熱を促進するとともに、ウエハチャックE1 のまわりの雰囲気圧力との圧力差によってウエハW1 の吸着力を確保する。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持面に凹所を有する保持盤と、該保持盤の前記凹所を所定のガスの減圧雰囲気に制御することで前記基板を前記保持面に吸着する吸着力を発生させる吸着制御手段を有する基板保持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/30 503 C ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 502 H ,  H01L 21/30 531 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-048716
  
• 特開平4-280619
  
• 特開平4-208551