特許
J-GLOBAL ID：200903091245991925
脱墨剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-341121
公開番号（公開出願番号）：特開2001-159085
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】【課題】 煩雑な工程を経ることなく合成ができ、洗浄法およびフローテーション法のいずれの脱墨処理方法においても、高白色度で残存インキの少ない再生パルプを得ることが可能な古紙再生用の脱墨剤を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)で示される化合物を含有する脱墨剤。【化1】[式中、R1はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルケニル基、nは1又は2の整数、mは1〜3の整数、Bは末端酸素原子がXと結合しているポリエーテル残基、Xは水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アシル基、ヒドロキシアシル基、スルホン酸塩残基、カルボン酸塩残基、亜リン酸塩残基、次亜リン酸塩残基又は酸化リン残基をそれぞれ示す]
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示される化合物を含有する脱墨剤。【化1】[式中、R1はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルケニル基、nは1又は2の整数、mは1〜3の整数、Bは末端酸素原子がXと結合しているポリエーテル残基、Xは水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アシル基、ヒドロキシアシル基、スルホン酸塩残基、カルボン酸塩残基、亜リン酸塩残基、次亜リン酸塩残基又は酸化リン残基をそれぞれ示す]
IPC (3件)：
D21C 5/02
, C08G 59/02
, C09D 9/00
D21C 5/02
, C08G 59/02
, C09D 9/00
4J038RA03
, 4J038RA06
, 4J038RA15
, 4L055AE05
, 4L055AE10
, 4L055BA37
, 4L055FA05
, 4L055FA07
