特許
J-GLOBAL ID：200903091257793274
真空脱ガス設備
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸田 正行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-008712
公開番号（公開出願番号）：特開2000-212639
出願日： 1999年01月18日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：
【要約】【課題】 本願発明は、真空脱ガス設備工程における溶鋼への窒素ピックアップを、安価な設備費で、安定して防ぐことのできる真空脱ガス設備を供給することである。【解決手段】 溶鋼3に真空槽1の一部を浸漬して真空槽内を減圧し真空脱ガス処理を行う真空脱ガス設備において、前記溶鋼3に浸漬する部位の上部の真空槽鉄皮10に周状に開孔部15を設け、該開孔部を覆うように真空槽の周状に吸引室4を設け、該吸引室内を減圧する機能を有したことを特徴とする真空脱ガス設備。及び、前記吸引室4が真空槽内を減圧する真空排気装置7に接続したことを特徴とする前記真空脱ガス設備である。
請求項（抜粋）：
溶鋼に真空槽の一部を浸漬して真空槽内を減圧し真空脱ガス処理を行う真空脱ガス設備において、前記溶鋼に浸漬する部位の上部の真空槽鉄皮に周状に開孔部を設け、該開孔部を覆うように真空槽の周状に吸引室を設け、該吸引室内を減圧する機能を有したことを特徴とする真空脱ガス設備。
Fターム (4件)：
4K013BA12
, 4K013CE09
, 4K013DA02
, 4K013DA12
