特許

J-GLOBAL ID：200903091257816274

酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法

発明者： 佐藤 幸治
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-204362
公開番号（公開出願番号）：特開2001-031423
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】 優れた耐摩耗性等の機械的強度と光触媒活性とを有する酸化チタン系の複合膜を高温処理を必要とすることなく製造できる方法を提供すること。【解決手段】 フルオロ金属錯イオンを含有する水溶液にフッ素捕捉剤を添加することによって、金属酸化物薄膜を基材上に析出させる方法において、フルオロ金属錯イオンを構成する金属元素がチタン及びジルコニウムである酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

フルオロ金属錯イオンを含有する水溶液にフッ素捕捉剤を添加することによって、金属酸化物薄膜を基材上に析出させる方法において、フルオロ金属錯イオンを構成する金属元素がチタン及びジルコニウムであることを特徴とする酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 25/00 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (3件)：

C01G 25/00 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J

Fターム (34件)：

4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AE06 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA04C ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB04C ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC02B ,  4G069BC02C ,  4G069BC51B ,  4G069BC51C ,  4G069BD03B ,  4G069BD03C ,  4G069BD15B ,  4G069BD15C ,  4G069CD10 ,  4G069EA07 ,  4G069EC22Y ,  4G069ED03 ,  4G069ED04 ,  4G069FC03 ,  4G069FC04