特許
J-GLOBAL ID：200903091259268258
基板の洗浄・乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薬師 稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-207580
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041267
出願日： 1996年07月19日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 基板へのパーティクルの付着を防止でき、また、設備の大型化や複雑化を招くこと無く十分に乾燥することができる洗浄・乾燥装置を提供する。【解決手段】 純水にIPAを5重量%程度混合した洗浄液を洗浄槽10内に貯留し、カセットC内に収容された半導体ウェハBを上下搬送機20の保持アーム24のチャック部材25で挟持して保持アーム24を下降させ、洗浄槽10内の洗浄液に浸漬させて半導体ウェハBを洗浄する。次いで、上下搬送機20によりカセットCを1〜2mm/秒程度の低速度で上昇させて半導体ウェハBを洗浄槽10内の洗浄液から引き上げ、また、この引き上げ時に保持アーム24のノズル28から加熱された窒素ガスを半導体ウェハBに吹き付ける。
請求項（抜粋）：
プロピルアルコールと純水が混合された洗浄液を貯留し、該洗浄液中にカセットに保持された基板を浸漬させて洗浄する洗浄槽と、前記カセットを把持可能なチャックが設けられた昇降メンバを昇降可能に備え、該昇降メンバを昇降駆動して前記基板が保持されたカセットを前記洗浄槽内に出し入れする上下搬送機と、該上下搬送機の昇降メンバに設けられたノズルと、該ノズルに接続され、該ノズルに酸素を含まない乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給配管と、を備えることを特徴とする基板の洗浄・乾燥装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 361
, B08B 3/04
, B08B 3/08
H01L 21/304 351 C
, H01L 21/304 361 H
, B08B 3/04 B
, B08B 3/08 Z
