特許
J-GLOBAL ID：200903091269450402
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-219008
公開番号（公開出願番号）：特開平7-056323
出願日： 1993年08月11日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 安定した高い洗浄能力を有し、スループットも高く、薬液を一切使用することのない小型の基板洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の基板洗浄装置は、基板の周りにオゾン雰囲気を形成して前記基板の表面を親水性化するための親水性化手段5と、前記基板の表面に水を吹き付けるための吹付け手段4と、前記基板の表面を覆う水を凝固させるための凝固手段9と、前記基板の表面から凝固した氷を剥離させるための剥離手段6とを備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板の周りにオゾン雰囲気を形成して前記基板の表面を親水性化するための親水性化手段と、前記基板の表面に水を吹き付けるための吹付け手段と、前記基板の表面を覆う水を凝固させるための凝固手段と、前記基板の表面から凝固した氷を剥離させるための剥離手段とを備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, B08B 3/10
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
