特許

J-GLOBAL ID：200903091271912812

フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法

発明者： 武井 瑞樹 ,  西嶋 佳孝 ,  小谷 武
出願人/特許権者： ナガセ電子化学株式会社
代理人 (1件)： 塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-250231
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【構成】 アルキルアミン又はアルカノールアミンと極性有機溶剤と水との混合溶媒に、一般式化1〜化4の少なくともいずれかで表されるアルキルアミン又はアルカノールアミンと、硼酸との塩が含有されているフォトレジスト剥離剤組成物。【化1】【化2】【化3】【化4】【効果】 アルカリ性を高めることで高い剥離力を有し、硼酸塩を添加することにより高アルカリ条件においても、剥離力を落とすことなくAl配線に対する腐食を抑えることができる。

請求項（抜粋）：

アルキルアミン又はアルカノールアミンと極性有機溶剤と水と金属を含まない硼酸塩とを主成分とすることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (4件)：

2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096LA03 ,  5F046MA02