特許

J-GLOBAL ID：200903091275372960

黒色粒子、黒色粒子製造用メッキ装置および黒色粒子を用いた光吸収体

発明者： 内藤 悦伸 ,  高杉 和宏 ,  川又 洋一 ,  堀内 政夫 ,  片岡 敏光
出願人/特許権者： アンリツ株式会社
代理人 (1件)： 早川 誠志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-119790
公開番号（公開出願番号）：特開2004-332111
出願日： 2004年04月15日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】 光の入射角の制限や、基材の大きさや形状、材質による制限のない光吸収体を実現する。【解決手段】 黒色粒子20の表面には、粒状の核体21の表面にメッキされたニッケル・リン合金の皮膜22に対するエッチング処理によって光を吸収するための微細な凹凸22aが核体21を中心にして放射状に形成されており、核体21の中心に向かうあらゆる方向からの光を低反射率で吸収する。この黒色粒子20を、基材の所定面に接着することで、光の入射角の制限や、基材の大きさや形状、材質による制限のない光吸収体を構成することができる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

粒状の核体(21)の表面に光を吸収するための微細な凹凸(22a)が前記核体を中心にして放射状に形成されている黒色粒子。

IPC (5件)：

C23F1/30 ,  B22F1/02 ,  C23C18/31 ,  C23C18/34 ,  G02B5/00

FI (5件)：

C23F1/30 ,  B22F1/02 A ,  C23C18/31 E ,  C23C18/34 ,  G02B5/00 B

Fターム (28件)：

2G065AA04 ,  2G065BA40 ,  2H042AA06 ,  2H042AA11 ,  2H042AA15 ,  2H042AA21 ,  4K018BC22 ,  4K018BD10 ,  4K022AA01 ,  4K022AA11 ,  4K022AA35 ,  4K022AA41 ,  4K022BA14 ,  4K022BA16 ,  4K022BA32 ,  4K022DA01 ,  4K022DB14 ,  4K022DB16 ,  4K022EA04 ,  4K057WA09 ,  4K057WB03 ,  4K057WB11 ,  4K057WD03 ,  4K057WD10 ,  4K057WE03 ,  4K057WE30 ,  4K057WM13 ,  4K057WN04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第2661983号公報
  

審査官引用 (3件)

• 特許第2661983号
  
• 黒色微粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-303759   出願人：宇部日東化成株式会社
• 黒色微粒子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-058125   出願人：宇部日東化成株式会社