特許
J-GLOBAL ID：200903091281689569
ガスサンプリング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-057080
公開番号（公開出願番号）：特開平5-133855
出願日： 1992年02月07日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ガスサンプリング後の超高精度なガス分析が容易に行える等としたガスサンプリング装置を提供しようとするものである。【構成】 加熱ヒータ6( 加熱部)により容器1のベーキングを行った後、一方の弁体(第1弁体)2から他方の弁体(第2弁体)4に向けて所定のガスを流してパージを行い、しかる後、一方の弁体2を介して容器1内にサンプリング用のガスを充填させる。容器1の内面等の接ガス部には電解研磨処理のような鏡面仕上げ処理を施し、さらに、その上に酸化不動態膜のような不動態膜を形成している。また、容器には把持ハンドル7(把持部)及び設置脚部8(設置部)を設ける。
請求項（抜粋）：
ガスを収容可能な金属製の中空容器と、該容器に設けられる金属製の第1弁体、及び金属製の第2弁体と、前記容器の外周部に設けられる加熱部と、前記容器を掴持するための把持部と、該容器を設置面上に据置くための設置部とから成り、前記ガスの接ガス面に鏡面仕上げを施し、さらに、不動態膜が形成されたことを特徴とするガスサンプリング装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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