特許

J-GLOBAL ID：200903091285095825

パターン形成体の製造方法

発明者： 小林 弘典 ,  岡部 将人 ,  山本 学
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-053774
公開番号（公開出願番号）：特開2000-249821
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、少なくとも光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

少なくとも光触媒含有層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が接触するように配置した後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。

Fターム (4件)：

2H048BA64 ,  2H048BB14 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42

引用特許：

出願人引用 (1件)

• X線マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-282181   出願人：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社

審査官引用 (1件)

• X線マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-282181   出願人：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社