ポジ型感光性組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-003702
公開番号（公開出願番号）：特開2003-207884
出願日： 2002年01月10日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ションの性能向上技術における課題を解決することであり、エッジラフネス、現像欠陥の点で改善されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物及び芳香環を有さないスルホニウム塩構造を有する化合物から選ばれる少なくともひとつ、及び、(B)特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、一般式(A2I)で表される化合物及び一般式(A2II)で表される化合物から選ばれる少なくともひとつ、及び、(B)一般式(I)で表される繰り返し単位及び一般式(II)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】【化2】一般式(A2I)において、R1c〜R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。R6c及びR7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Rx及びRyは、各々独立に、アルキル基、2-オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリル基、又はビニル基を表す。R1c〜R7c中のいずれか2つ以上、及びRxとRyは、それぞれ結合して環構造を形成しても良く、この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。一般式(A2II)において、R1b〜R3bは、各々独立に、アルキル基を表す。アルキル基は、2位に>C=Oを有する2-オキソアルキル基であってもよい。R1b〜R3bは、その内の2つが互いに結合して環構造を形成してもよい。一般式(A2I)及び(A2II)において、X-はアニオンを表す。【化3】一般式(I)において、R1aは水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、R2aは置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。尚、R1aとR2aとが互いに結合して環を形成してもよい。一般式(II)において、Zは、-O-又は-N(R3a)-を表す。ここでR3aは、水素原子、水酸基、アルキル基、ハロアルキル基又は-OSO2-R4aを表す。またR4aは、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。

IPC (6件)：

G03F 7/004 503 , C08F216/12 , C08F222/00 , C08F234/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 503 A , C08F216/12 , C08F222/00 , C08F234/02 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (42件)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AE02P , 4J100AE04P , 4J100AE09P , 4J100AE10P , 4J100AK32Q , 4J100AM43Q , 4J100AM45Q , 4J100AM47Q , 4J100AR32P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA55Q , 4J100BB01P , 4J100BB07Q , 4J100BB18Q , 4J100BC04P , 4J100BC07Q , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC53P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA37 , 4J100JA38

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