特許

J-GLOBAL ID：200903091288743127

ヘアスプレイ組成物

発明者： 保野 昌也 ,  米谷 明雄 ,  前川 明男
出願人/特許権者： サンスター株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-377579
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191470
出願日： 1998年12月29日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 毛髪のまとまりが良く、毛髪上の皮膜の平滑性が高くベタツキの少ないヘアスプレイ組成物を提供する。【解決手段】 ポリアスパラギン酸誘導体とエステル成分、高級アルコ-ルの何れか1種以上と及び紫外線吸収剤を組み合わせることを特徴とする、毛髪のまとまりがよく、毛髪上の皮膜の平滑性が高く、べたつきのすくない良好な使用感を有するヘアスプレイ組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下式Aに示すモノマー単位5〜95重量%、及び下式B(式B-1、式B-2あるいは式B-3のうちいずれか)に示すモノマー単位5〜80重量%からなる、重量平均分子量5,000〜500,000のポリアスパラギン酸誘導体と(B)エステル、高級アルコールから選ばれる少なくとも1種以上、及び(C)紫外線吸収剤の1種以上を配合することを特徴とするヘアスプレイ組成物。式A:【化1】[式中、R1及びR2は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜24のアルキル基、アルキルエーテル基、アルキルアルコ-ル基の何れかを示す。]式B(式B-1、B-2あるいはB-3のうちいずれか):【化2】あるいは【化3】あるいは【化4】[式B中、R3は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5、R6、R7及びR8は炭素数1〜24のアルキル基の何れかを示す。Xは塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜4の硫酸アルキル残基を示す。]

Fターム (19件)：

4C083AC012 ,  4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC351 ,  4C083AC352 ,  4C083AC551 ,  4C083AC552 ,  4C083AC851 ,  4C083AC852 ,  4C083AD411 ,  4C083AD412 ,  4C083BB46 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE06 ,  4C083EE21