特許

J-GLOBAL ID：200903091295706016

1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法

発明者： 真柄 光男 ,  小野田 好美 ,  山崎 史人 ,  米田 進 ,  加藤 和昭
出願人/特許権者： 東和化成工業株式会社
代理人 (1件)： 太田 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-357871
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192146
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【構成】 ルテニウム水素化触媒が充填された固定床連続式水素添加装置に水素を導入し、同時に、第一原料と第一段水素添加反応生成物とを導入し、第一段の水素添加反応を行い、反応生成物及び余剰の水素を該装置から排出する第一工程、銅クロマイト水素化触媒が充填された固定床連続式水素添加装置に水素を導入し、同時に、第二原料と第一段水素添加反応生成物とを導入し、第二段の水素添加反応を行い、反応生成物及び余剰の水素を該装置から排出する第二工程、の二工程を逐次的に経由して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する。【効果】 パラジウムよりも安価なルテニウム触媒の採用が可能になり、且つ、従来に較べて温和な条件での第一段目の水素添加反応を実現することが可能になり、全工程で生じる不純物の生成量を少なくすることが可能になり、経済的に有利に1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造することができる。

請求項（抜粋）：

1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造するに際し、(1)ルテニウム金属の担持割合が0.05〜10重量%のルテニウム水素化触媒が充填された固定床連続式水素添加装置の上端又は下端に、水素を導入し、同時に、第一原料としてテレフタル酸ジアルキルエステル又は、テレフタル酸ジアルキルエステルと第一段水素添加反応生成物とを、SV(触媒容積を1としたときの1時間あたりの空間速度)=1〜10で導入し、第一段水素添加反応の未反応成分の初期濃度を5〜100重量%として、温度90〜240°C、水素圧力5〜150kgf/cm2 の条件で第一段の水素添加反応を行い、反応生成物及び余剰の水素を該装置の下端又は上端から排出する第一工程、(2)銅クロマイト水素化触媒が充填された固定床連続式水素添加装置の上端又は下端に水素を導入し、同時に、第二原料として第一段水素添加反応生成物又は、式(I)で表される化合物、式(II)で表される化合物、式(III)で表される化合物から成る群から選ばれる2種以上が相互に任意の組み合わせでエステル交換により1〜10個結合した化合物の混合物と第一段水素添加反応生成物とを、SV=0.1〜1で導入し、第二段水素添加反応の未反応成分の初期濃度を10〜100重量%として、温度200〜300°C、水素圧力50〜180kgf/cm2 の条件で第二段の水素添加反応を行い、反応生成物及び余剰の水素を該装置の下端又は上端から排出する第二工程、の二工程を逐次的に経由することを特徴とする1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法。【化1】【化2】【化3】

IPC (6件)：

C07C 31/135 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/86 ,  C07C 29/149 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 29/19